4일 관련업계에 따르면 효성은 질화갈륨(GaN)을 응용한 첨단 정보산업소재를 차세대 사업으로 육성키로 하고 이 분야 연구개발(R&D)투자에 2200만달러를 투자하기로 했다.
효성을 이를 위해 미국 캘리포니아에 위치한 반도체 연구개발회사 제픽스사(Xepix Corporation) 설립에 지난 2001년 700만 달러, 올해초 800만달러 등 총 1500만달러를 투자했으며 향후 3년 이내에 700만 달러를 추가로 투자할 계획이다.
제픽스사는 올 상반기 연구개발센터가 완공되면 본격적인 제품 개발에 들어가 향후 1년 이내에 질화갈륨을 이용한 청색 발광다이오드 시제품을 개발하고 이 분야 첨단기술을 지속적으로 개발한다는 계획이다.
질화갈륨은 현재 휴대폰, 신호등, 대형전광판의 청색, 백색용 발광 다이오드 등에 쓰이고 있으며 이를 응용한 제품 시장은 연평균 30% 가량 성장하고 있다는 것이 효성측의 설명이다.
코오롱은 차세대 주력 사업으로 필름 사업과 정밀화학 사업을 육성하고있다.
코오롱 관계자는 “필름분야가 향후 개발될 다양한 IT제품의 소재로 발전할 수 있다는 점에서 집중 육성하고 있으며 그중 하나로 TFT-LCD용 광확산필름 개발에 150억원가량을 투자, 지난 1월부터 본격적인 양산에 들어갔다”고 말했다.
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